6月26日消息，据报道，荷兰外贸大臣将于7月初访华，光刻机巨头ASML、半导体企业恩智浦等共17名企业高管随行，聚焦半导体设备贸易分歧沟通。
ASML官方近期发布正式声明，明确否认曾向国内出口任何一台EUV极紫外光刻机，配套专属组件、模块也从未对华交付，该设备是制造7纳米以下高端AI芯片的核心刚需装备。
当前管制框架下，除EUV全面封锁外，多款高端浸润式DUV深紫外光刻机同样无法对华出货，DUV设备是国内28纳米及以上成熟制程产线的核心生产载体。
本次出访筹备阶段曾遇阻碍，荷兰商界担忧官员会谈触碰无关敏感议题，在荷兰外贸大臣承诺仅洽谈经贸产业议题后，ASML等企业高管才确定参与此行。
外界分析认为，美荷虽统一管控AI芯片生产所需高端光刻设备，但双方针对普通DUV设备对华销售的管制尺度存在明显分歧，这也是本次洽谈的重要议题。
需要指出的是，美方单边芯片管制举措，无法阻碍国内产业创新进程。
